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红外锗

锗(Ge)的范围为 2-12 μm。锗最常用于制造高效红外成像系统中的光学透镜和光学窗口。由于锗对可见光的传输范围广且不透明,因此非常适合用于制造红外激光器和光学系统中的光学元件。锗的高折射率和最小表面曲率使其成为制造低功率成像系统的理想材料。色差小,通常无需校正。
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锗图表:


锗的吸收率随温度升高而增加。锗材料在 100 ℃ 左右开始出现明显的传输衰减,在 200 ℃ 至 300 ℃ 之间加速衰减,可能导致光纤的灾难性失效。由于基材表面的高反射率,AR 涂层或 DLC 涂层被广泛应用于锗的表面。

带有 AR&DLC@7-14μm锗传输图表:


禹泰光学可提供直径从 7mm-300mm、厚度从 0.8 mm-40mm的锗毛坯。矩形坯料的尺寸为 200 mm x 200 mm,厚度可达 100 mm。电阻率为 5-40 Ω/m2。我们可以生产直径从 15mm-200mm的弧形坯料。直径公差可精确到 0.03mm(标准直径公差为 0.1 mm)。棱镜、透镜、窗口和其他光学元件可根据客户的规格和图纸定制。
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